仪器型号：e_LiNE plus

产地厂家：德国Raith

购置时间：2012年12月

主要功能和技术指标：
            主要用途： 基于电子束光刻胶的各种纳米结构的加工与各类纳米结构的模板制作，以套刻功能与技术见长。
            性能指标：              束斑尺寸：1keV 4nm；20keV 2nm;              平移台稳定性：小于300 nm/hour; 束流稳定性 小于0.5%/8小时；              刻蚀效果：线宽小于10nm；              拼接精度：小于40nm；              套刻精度：小于40nm；              FBMS方向性：小于20nm。
         

电子束刻蚀系统图片

仪器地址：物理楼北153

仪器联系人：褚赛赛，电话：62760052，邮箱： chusaisai@pku.edu.cn